上海微电子高亮度 LED 步进投影光刻机入选 “上海设计 100+”

2020/5/19 11:58:28 来源:IT之家 作者:骑士 责编:骑士

IT之家5月19日消息 上海微电子装备(集团)股份有限公司(简称SMEE)主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。今天,上海微电子装备官方表示,其高亮度LED步进投影光刻机最终从1200多个申报项目中成功突围,入选“上海设计100+”。

上海微电子装备自主研发的高亮度LED步进投影光刻机,是中国首台面向6英寸以下中小基底先进光刻应用领域的光刻机产品,可满足HB-LED等领域单面或双面的光刻工艺需求,解决了LED产业大翘曲蓝宝石高分辨率、高拼接精度、大焦深、高产率的光刻需求,且支持蓝宝石键合片特殊工艺。

IT之家获悉,上海微电子装备高亮度LED步进投影光刻机自产品问世以来,先后荣获“第十五届中国国际工业博览会铜奖”、“上海市专利新产品”、“第十三届(2018年度)中国半导体创新产品和技术奖”、工信部第四批“制造业单项冠军产品”等荣誉。

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关键词:光刻机

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