上海微电子披露:2021-2022 年交付第一台 28nm 工艺国产沉浸式光刻机

2020/6/10 17:01:22 来源:IT之家 作者:骑士 责编:骑士

IT之家6月10日消息 界面新闻报道,近期,上海微电子装备(集团)股份有限公司披露,将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产沉浸式光刻机。国产光刻机将从此前的90nm工艺一举突破到28nm工艺。

IT之家了解到,上海微电子装备(集团)股份有限公司(简称SMEE)主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。公司设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造领域。

目前上海微电子光刻机产品包括IC前道制造SSX600系列光刻机;IC后道先进封装SSB500系列光刻机; LED、MEMS、Power Devices制造SSB300系列光刻机; TFT曝光SSB200系列光刻机。

其中,SSX600系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术,以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术,可满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求。该设备可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产。

相关文章

软媒旗下网站: IT之家 辣品 - 超值导购,优惠券 IT圈(Win10/WP8.1/Win7论坛) 最会买 - 返利返现优惠券 6655网址之家 Win10之家 Win8之家 Win7之家 Vista之家

软媒旗下软件: 魔方 旗鱼浏览器(极速内核) 云日历 酷点桌面 闪游浏览器(IE内核) Win7优化大师 Win8优化大师 Win10优化大师 软媒手机APP应用