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否认良率不足 20%,三星声明:3nm 工艺性能和产量已步入正轨

2024/7/10 15:25:44 来源:IT之家 作者:故渊 责编:故渊

IT之家 7 月 10 日消息,三星公司昨日(7 月 9 日)发布新闻稿,称 3nm 工艺良率和性能稳定,整个工艺项目正按计划推进。

IT之家 6 月援引韩媒报道,三星电子的 Exynos 2500 芯片目前良率仍略低于 20%,未来能否用于 Galaxy S25 系列手机尚不明朗。

三星在最新声明中否认了外界传闻,表示:

三星于 2022 年全球首次量产 3nm GAA 工艺之后,第二代 3nm 工艺性能稳定,且产量已步入正轨。

三星在新闻稿中表示积极和设计解决方案合作伙伴(DSP)合作,为原型生产提供多项目晶圆(MPW)服务。

三星电子今年的 MPW 服务总数为 32 个,涵盖生产高性能功率半导体的 4 纳米工艺到 BCD 130 纳米工艺,与去年相比增加了约 10%,到 2025 年将增加到 35 个。

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关键词:三星3nm

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