荷兰 ASML 全球副总裁:对向中国出口光刻机保持开放态度

2020/11/6 10:29:07 来源:IT之家 作者:问舟 责编:问舟

IT之家11月6日消息 据澎湃新闻今日报道,在第三届中国国际进口博览会上,荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)全球副总裁、中国区总裁沈波表示,该公司对向中国出口集成电路光刻机持开放态度,对全球客户均一视同仁,在法律法规框架下,都将全力支持。

IT之家昨日报道,ASML 在第三届中国国际进口博览会上展示了先进的 DUV 光刻机。据了解,该产品可生产 7nm 及以上制程芯片。

DUV :深紫外线(Deep Ultraviolet Lithography),EUV :极深紫外线(Extreme Ultraviolet Lithography)。

从制程范围来看,DUV 基本上只能做到 25nm,Intel 凭借自对准二/四重曝光的模式做到了 10nm,但是却无法达到 10nm 以下。只有 EUV 能满足 10nm 以下的晶圆制造,并且还可以向 5nm、3nm 继续延伸。

此外,ASML 在本次展会上也带来了其整体光刻解决方案,包括先进控制能力的光刻机台计算光刻和测量通过建模、仿真、分析等技术,让边缘定位精度不断提高。

沈波表示,ASML 最早一台机器是在 1988 年进入中国的。目前中国的 700 多台装机涵盖了 ASML 公司绝大部分类型产品。且光刻机并非存在 “新旧更迭”现象,不同的集成电路的需求受应用场景影响而导致制程量级并不相同。目前 80、90 年代的产品现在市场上仍然会有很多需求,且 7 纳米、5 纳米、3 纳米芯片的数量在整个芯片供应链中大概只占 10% 多一点。但对于现在的物联网、汽车电子、轨道交通、超高压输电等 “新基建”来说,仍是需要大量 “成熟制程”的芯片。

沈波还表示,ASML 在中国也建立了自己的培训中心,培养光刻行业人才 , 在深圳和北京成了两家技术开发中心,做计算光刻、量测等开发。

对于网友最关心的 EUV 光刻机出口许可方面,他表示:ASML 必须要在遵守法律法规的前提下进行光刻机出口。但我们对向中国出口光刻机是保持很开放态度的,我们对全球客户都一视同仁,只要是我们能够提供的技术和设备,我们都会全力支持。实际上,2020 年第二、第三季度,公司发往中国大陆地区的光刻机台数超过了全球总数的 20%。

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关键词:光刻机

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