ASML 高管访问三星半导体工厂,三星希望优先获得 High-Na EUV 光刻机设备

2020/12/1 20:28:44 来源:IT之家 作者:骑士 责编:骑士

IT之家12月1日消息 据韩国媒体businesskorea报道,三星电子正在寻求加强与荷兰半导体设备制造商ASML的技术和投资合作。

上周,包括首席执行官Peter Burnink在内的ASML高管参观了三星电子的半导体工厂,讨论了在EUV光刻设备供应和开发方面的合作。ASML官员与三星电子副董事长金基南及其他三星重要高管进行了会谈。三星电子副会长李在镕没有参加会议。

业内人士认为,三星电子要求供应更多EUV光刻设备,并讨论了两家公司在开发下一代EUV光刻设备方面的合作。

IT之家获悉,三星需要更多的EUV光刻设备来扩大其在全球代工市场的份额。然而,作为全球唯一的EUV光刻设备制造商,ASML向全球第一大代工企业台积电供应的设备比向三星电子供应的设备更多。

三星电子希望与ASML建立技术联盟,以确保扩大下一代EUV光刻设备的供应。在ASML方面,由于下一代EUV设备的开发需要大规模的投资,因此与三星的投资合作是必要的。

三星希望投资开发高数值孔径(High-Na)EUV设备,以提高半导体微细加工所需的电路分辨率。该设备的价格预计为每台5000亿韩元(约合人民币29.662亿元),比现在的EUV设备高出2~3倍。ASML计划在2023年中期推出该设备的样机。三星电子希望先于台积电获得ASML的设备,以取得技术领先。

然而一位三星官员表示,会议上没有做出具体的投资决定。他表示,ASML高管访问三星电子是为了回应副董事长李在镕10月份访问ASML总部。

ASML高管还会见了SK Hynix总裁李锡熙。有消息称,他们就如何扩大EUV设备的供应和促进合作进行了讨论。

扩展阅读:

ASML(阿斯麦)已基本完成 1nm 光刻机设计

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关键词:ASML光刻机三星半导体

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