SK 海力士:将积极为中国工厂引进 EUV 光刻机,目前进展良好

2021/11/24 17:55:32 来源:IT之家 作者:问舟 责编:问舟

IT之家 11 月 24 日消息,众所周知,由于某些原因,ASML 最先进的 EUV 光刻机无法进入中国内地,甚至一些海外厂商换下来的旧设备也很难进入内地。

此前路透社援引知情人士的话报道称,韩国企业 SK 海力士无锡工厂的升级改造计划遇阻,仅仅是因为阿斯麦的极紫外光刻机无法获批进入中国大陆,虽然 SK 海力士十分希望通过该设备提高存储芯片的生产效率。

据多个外媒报道,SK 海力士 CEO 李锡熙(Seok-hee Lee)对此进行了回应,并就无锡海力士半导体工厂的相关情况进行了沟通。

22 日上午,李锡熙社长在首尔三成洞 COEX 举办的‘第 14 届半导体日’活动上会见记者时表示:“我们可以通过合作很好地应对。”

他认为,SK 海力士有足够的时间将 EUV 设备进口到中国。李锡熙对于引进受限一事表示:正与美方合作,目前进展良好。EUV 光刻技术已经在韩国本土的 DRAM 产线上应用,中国工厂还有充足的时间供斡旋沟通。

当被问及此时是否会影响无锡工厂正常工作时,他表示,“1a DRAM 已于 7 月在总部开始量产”“中国工厂还有很多时间”。

IT之家了解到,SK 海力士在无锡工厂引进的光刻机将用于制造 10nm DRAM 芯片,也就是第四代内存。SK 海力士已经在京畿道利川和无锡的工厂生产此类 DRAM。从去年 7 月开始,SK 海力士还量产了全球首次应用 EUV 的 10nm 级第 4 代(1a)DRAM。

根据此前 TrendForee 统计数据,无锡工厂对全球电子行业至关重要,其生产了 SK 海力士约半数的动态随机存储器芯片(DRAM),占全球总量的 15%。另一家市场分析公司 IDC 称,仅 2021 年,全球内存市场的需求就将增长 19%。

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关键词:SK海力士光刻机工厂

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